东方时讯网材料的图案化被认为是制造高分辨率和高性能设备的必要先决条件。已经开发了各种方法，但传统的制造工艺通常需要多步工艺或昂贵的光刻设备。
隶属于UNIST的一个研究团队最近推出了一种新的图案化技术，它与照片打印过程一样简单。这一突破由UNIST的JaeSungSon教授(材料科学与工程系)和JiseokLee教授(能源与化学工程学院)共同领导。
在这项研究中，研究团队报告了一种通用的直接光学印刷技术，通过数字光处理(DLP)获得功能性金属硫族化物。在此过程中，研究团队开发了普遍适用的基于光固化硫族金属酸盐(ChaM)的油墨，可直接用于创建各种尺寸和形状的2D图案或微米厚的2.5D架构。
据研究团队称，他们的工艺适用于化合物半导体的各种功能性金属硫属化物和二维过渡金属二硫属化物。研究团队还通过制造和评估带有数十个图案化半导体的微型热电发电机来证明我们技术的可行性。
研究团队指出：“我们相信，我们的技术与双光子光刻等高分辨率设备相结合，可以实现无机材料的图形化，具有出色的质量和分辨率。”
“我们基于DLP的光学印刷技术提供了一种替代光刻的方法，可以作为一种平台技术，用于无机材料的经济高效、简单和高分辨率的直接架构。”